低反射率黑色氧化处理

锦华隆电子材料 是全球领先的吸光材料和涂层供应商，提供紫外、可见光、短波红外和中波红外波段杂散光抑制解决方案。

锦华隆电子材料 生产用于光机元件黑化的铝阳极氧化涂层。

黑色阳极氧化低反射率处理 适用于光捕获应用，例如镜头外壳、挡板、红外传感器、紫外传感器、被动红外探测器、黑体、光探测器、紫外吸收器等。

黑色镀膜服务

使用我们先进的光学黑色镀膜，轻松高效地抑制高性能光学元件中的杂散光，覆盖紫外、可见光和红外波段。

只需几微米的镀膜厚度，即可兼具极低的反射率和高吸收率，以及高热稳定性、高发射率、极低的释气性以及对几乎所有材料的优异附着力。

低反射率黑色阳极氧化处理 适用于夜视系统、冷却红外探测器部件、LED 屏幕、显微镜镜头、激光雷达、光谱仪、卫星设备、太阳能电池板、光学时钟等大多数工程材料和组件。

低反射率黑色氧化铝涂层

范围：紫外至长波红外

典型应用：航天、激光雷达、红外成像、被动热控、仪器仪表、制冷型红外探测器部件

低反射率黑色氧化铝涂层

符合真空和热真空循环要求

工作温度范围：-269°C 至 450°C

无颗粒物

厚度几微米-几十微米

几乎兼容所有铝基材

“涂层部件可使用乙醇、异丙醇或丙酮清洗，光学和技术特性均无变化。

耐湿性：MIL-C- 48497A

认证：ROHS、REACH、ISO 9001:2015、AS9100

低反射率黑色氧化处理 是一种高性能无机涂层，广泛应用于航天和许多其他领域。该涂层非常薄，是光学涂层设计的理想选择。它具有卓越的热性能和光学性能，几乎无释气、无颗粒，并且几乎可与任何铝基材兼容。

工作波长

可见光-远红外 (VIS-FIR)

涂层厚度：5-14µm

反射率： 3-10µm 小于 3%

工作温度 (°C)：-269 至 450 °C

工作温度 (°K)：4 至 723 °K

涂层重量 (mg/cm²)：1.6 - 3.2

中等耐磨性：(参考 MIL-C-48497A)

低反射率黑色氧化处理 经过全面测试，符合热循环、热真空循环、低温性能、释气、空间原子氧、环境暴露后的反射率以及附着力等标准。提供可见光、短波红外、中波红外和长波红外的详细双向反射分布函数 (BRDF) 数据。

低反射率黑色氧化处理 广泛应用于红外成像、被动热控制管理、仪器仪表以及制冷型红外探测器/传感器等诸多领域。它已应用于各种太空项目。